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钼溅射靶用于生产TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管元件。攀时的靶材具有最大密度、高纯度,并呈现均匀的微观结构。因此可以保证更高的溅射速度、最大限度减少过程中的颗粒形成并获得均质层。可提供的钼合金:MoTa、MoNb、MoNa、MoW。您可以选择我们的单片式和多片式平面靶。平面靶可用于所有常用系统以及满足特定的客户需求。也可提供旋转靶。
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由钨、钼和钨重合金Densimet®制成的防护元件只允许辐射通过实际需要通过的地方。在X射线的产生过程中,我们的材料保证将环境辐射照射量降到最低。攀时采用创新的近净成形工艺生产扁平防护元件。其结果是:箔材和板材具有特别均匀的各向同性微观结构,无任何特征取向。可能的产品和应用有:用于X射线管的防护元件、用于计算机断层扫描仪的快门叶片、用于检测器的防护元件、用于近距离放射治疗的同位素容器、用于直线加速器的防护元件、用于石油和天然气钻井的防护元件。
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