真空 - 進出口

8228 型传感器的测量精度为 0.05 % F.S.（测量范围 ≤ 1 巴时，测量精度为 0.1 % F.S.），非常适合用作基准传感器。紧凑的尺寸、坚固的外壳和工业级的输出信号使其应用范围非常广泛。 所有与介质接触的部件均由不锈钢制成。集成的测量放大器可将测量信号直接转换为不受干扰的电压或电流信号，并可进行远距离传输。 在 "相对 "测量模式下，压力测量是针对环境压力进行的；传感器的内孔受到环境影响的保护，用于平衡环境压力。在 "绝对 "测量模式下，针对密闭真空测量施加的压力；该测量模式的测量范围为 0 ... 250 毫巴。250 毫巴。电气连接采用 M12 x 1 接头。 特点 测量范围从 0 ... 0.1 巴至 0 ... 200 巴 测量精度从 0.05 % f.s. 起 集成放大器，输出 0 ... 10 V 温度范围 -20 ... +80 °C 防护等级 IP67

传感器配有坚固的外壳和不锈钢测量元件，特别坚固耐用，适用于最恶劣的环境条件；即使安装位置也不会对测量信号产生影响。集成的测量放大器可将测量信号直接转换为不受干扰的电压信号或电流信号，并可进行远距离传输。M12 x 1 平装膜片适用于高粘度物质，从而消除了死体积的干扰。 为了测量环境压力（相对测量型），传感器背面有一个受保护的小开口。使用绝对测量选项时，则是在封闭的真空环境下测量所施加的压力。 电气连接采用 DIN 43650A 阀门连接器或 M12 x 1 4 针连接。 特点 测量范围从 0 ... 0.05 巴至 0 ... 500 巴 测量精度从 0.25 % F.S. 起 集成放大器，输出 0 ... 10 V 工艺连接螺纹 G 1/4 英寸 防护等级 IP65/67

"8431/8432系列微型拉/压传感器用于精密测量狭小空间的拉力和压力，精度高、量程宽、安装方便，经过外螺纹负载螺栓可广泛用于实验室和生产线。 该系列拉压力传感器属于波司特精密传感器系列，同时具备机械结构结实耐用、尺寸较小的特点。即使是通常大尺寸才有的选配项，8431/8432系列也可以选配，比如密封型结构、过载保护、环境压力补偿（适用于真空环境）、高低温环境补偿等， 其结构设计巧妙，壳体内部集成了机械支撑和过载保护装置，由此减少了在许多应用场合外加过载保护装置或导轨的要求，既节省了空间、材料和重量，又没有摩擦原件，避免了由此带来的测量结果失真。 传感器的电缆适合机械手应用，便于传感器用在特种场合做精密测量。 典型应用： —机械制造 —工具制造 —装卸货 由于传感器直接通过圆柱壳体两侧的外螺纹螺栓测量拉力和压力，传感器壳体两面都不可有任何外部机构接触，以避免内部测量单元受到损坏，具体需在使用前参照操作手册。虽然内部测量单元已经设计了隔离装置，但在使用时仍需避免外力、扭转力和弯曲力。 小量程型号内部设计了专门机构来减少径向力和惯量的影响，以确保其测量的长期稳定性。在传输电缆上有内置微型电路，用于环境温度补偿和输出信号标准化处理，技术参数中的最大静态力指的是传感器测量轴所能承受的轴向力，过载保护不适合频繁过载或者突然加载。传感器一面是被动面，用于安装固定，另一面是加载面，用于测量。" 特点 尺寸小 用于拉伸和压缩力 温度补偿范围从 - 55 °C 至 200 °C 可选 由于支撑膜片的存在，交叉灵敏度极低 相对线性偏差 ≤ ± 0.15 % f.s. 测量范围从 0 ... 2.5 N 和 0 ... 100 kN 8432 型带过载保护，用于拉伸和压缩方向 可选配 TEDS 刺刀

GEMÜ 550 为2位2通气动角座阀。阀杆上自动调整式密封组件保证阀杆长时间工作后的低维护和可靠性。组件前装有擦拭环，以防污染或损坏。● 不锈钢执行器清洁方便，同时可用于腐蚀性环境 ● 多种阀体连接方式 ● 良好的流通性 ● 重量轻 ● 适用于真空环境 ● 常闭式目测式位置显示(可选常开、双作用的控制方式) ● 可用于食品行业(EC)No. 1935/2004 (K-No. 1935)

TDS吸式混合机将粉状物、液面以下的液体或气体吸成液体，同时将容器内的内容物均匀化。吸力所需的真空是在搅拌头中产生的。该机通过法兰盘或横梁从上方安装到容器内。另外，TDS吸式搅拌器也可以在升降架上工作。 将粉末从容器中吸进，通过搅拌和润湿立即引入液面以下的液体中。 搅拌头会产生必要的负压。 在引入粉料过程中，直接从袋内吸出，避免粉尘暴露。有效的微观和宏观的混合，使整个容器内的内容物在粉料输入的同时进行有效的混合。由于采用了射流导流混合原理，在所有的容器级别上都能实现完全的质量转移和均匀性。液面以下立即湿化。液体和气体也可以被吸进去。

DaiTec具有Conti-TDS技术的所有优点，是专门针对牛奶加工和食品行业的要求而定制的。它的特点是通过了3A认证的设计，并采用了带集成料斗的送粉台，工作高度符合人体工程学原理。 它直接连接到现有的集装箱上，经过简单的几步就可以操作。由于该机具有强大的吸力真空，除了从料斗中吸气外，还可以通过吸气管直接将粉料容器中的粉料吸入并分散。 保证了容器排空、粉料输送、粉料导入、粉料润湿和分散的无尘化。由于使用了高剪切能和真空下粉体的润湿/分散，使粉体无颗粒、高浓度、均匀和非常稳定的分散体。优异的乳化性能--即使没有高压均质机，也能实现窄谱乳化。3A级认证设计

下一代技术 Batt-TDS™ 在真空下将粉料无尘导入液流中，从而为连续顺序中不同组分的最佳分散创造条件。独立控制包括流量和剪切速率在内的关键参数，从而在单一的设备中就能提供广泛的工艺窗口。 电池浆料的“瑞士军刀”式工艺刀具 不同特征材料的分散是根据其特定的物理属性和拓扑性质而调整，并能够生产高粘度的高固含浆料。 可放大并具有成本效益 Batt-TDS 仅需传统工艺时间的极少的部分就能获得高品质产品。Batt TDS 解决方案可轻松扩展到各种电池化学产品，不仅适用于当前工业规模的生产，并为未来的Giga大型工厂做好了准备。该平台提供了更低的设备总持有成本，为每平方米工厂空间提供最高的产量。

最新一代的多功能YSTRAL PiloTec工艺设备为您提供了在实验室规模内使用成熟的生产工艺的机会。得益于Conti-TDS技术，粉末可以在真空、无尘、无尘的情况下一次性完成诱导、润湿和分散。易于使用的可更换的工具可以使用创新的Multi-Z或Z-Inline工艺和高精度多级剪切环系统进行操作。 既定的程序和独立于批次尺寸的特定能量输入保证了卓越和稳定的结果。这些都可以很容易地转移到生产规模--安全地扩大到YSTAL工厂建设。 模块化的设计使得PiloTec-Plant工艺设备可以通过ystral混合技术、处理粉体和液体的系统、测量技术和传感器、升降台以及其他模块化部件扩展到PiloTec-Plant工艺设备。

我们的真空室VC P110x120由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽，可轻松将产品支架推入其中。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 300 mm, 600 mm) 宽度: 110 mm 高度: 120 mm 前面板（可选）: 5 U（1 U = 44.45毫米） 卷 从 约 4 到 8 升 接口 3 x KF 16 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P150x160由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 625 mm) 宽度: 400 mm 高度: 600 mm 前面板（可选）: 16 U（1 U = 44.45毫米） 卷 约 150 升 接口 1 x KF 16 7 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC M600²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 600 mm 高度: 600 mm 卷 从 约 360 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC M1200²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 1200 mm 高度: 1200 mm 卷 约 1440 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC M1000²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 1000 mm 高度: 1000 mm 卷 约 1000 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC M800²由我们的新型模块化室系统组成。全新的真空系统能够由单个或多个长度为500 mm的相同铝合金整体加工模块组合而成。 本系统具有非常大的优势： ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 真空室规格 内部尺寸 长度: 1000 mm (模块化，步长为500 mm) 宽度: 800 mm 高度: 800 mm 卷 约 640 升 接口 2 x KF 16 6 x KF 40 1 x ISO K 63 1 x ISO K 160 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P240X240由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽，可轻松将产品支架推入其中。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 420 mm, 600 mm) 宽度: 240 mm 高度: 240 mm 前面板（可选）: 8 U（1 U = 44.45毫米） 卷 从 约 24 到 35 升 接口 2 x KF 16 3 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P700D 由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 1000 mm, 1400 mm) 内径: 640 Ø 外径: 700 Ø 前面板（可选）: 18 U（1 U = 44.45毫米） 卷 约 322-450 升 接口 2 x KF 16 2 x KF 40 2 x ISO K 63 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P305X300由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 370 mm, 620 mm) 宽度: 305 mm 高度: 300 mm 前面板（可选）: 9 U（1 U = 44.45毫米） 卷 从 约 34 到 57 升 接口 1 x KF 16 5 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P400x400由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽，可轻松将产品支架推入其中。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 625 mm) 宽度: 400 mm 高度: 400 mm 前面板（可选）: 10 U（1 U = 44.45毫米） 卷 约 100 升 接口 1 x KF 16 6 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的真空室VC P150x160由基于铝型材的独特、灵活的腔室系统。将三米长的型材切割成所需的长度，并装配一个用螺丝拧紧的后板和一扇门。在型材的侧板中已有凹槽，可轻松将产品支架推入其中。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 325 mm, 600 mm) 宽度: 150 mm 高度: 160 mm 前面板（可选）: 6 U（1 U = 44.45毫米） 卷 从 约 4 到 8 升 接口 4 x KF 16 1 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器

我们的VC P400x400 HV真空室是专门为在高真空下使用而开发的，它由一个独特的、灵活的、基于挤压铝型材的室系统组成。三米长的型材被切割成所需的长度，并安装了一个带螺丝的后壁，以及一个门。与我们的标准VC P400x400不同，VC P400x400 HV的侧壁上没有槽。 本系统具有非常大的优势： ✓ 长度灵活，可达 3 米 ✓ 交货时间非常快，因为只需要补充门和后板 ✓ 价格合适 ✓ 重量轻 ✓ 无需复杂的产品支架 安装操作 ✓ 可以通过阳极氧化获得所需的颜色 ✓ 导热性非常好 ✓ 工艺流程非常洁净，例如：在半导体区域内 ✓ 加工简单 ✓ 无需焊接，即可轻松安装部件 ✓ 可以轻松固定到现有的连接片上 真空室规格 内部尺寸 长度: 取决于 3000 mm (标准: 625 mm) 宽度: 400 mm 高度: 400 mm 前面板（可选）: 10 U（1 U = 44.45毫米） 卷 约 100 升 接口 1 x KF 16 6 x KF 40 门 带有观察窗的铰链门 迪纳电子不仅为真空室提供引领潮流的解决方案，而且还提供。 用于表面处理的低压等离子体系统 用于表面处理的常压等离子体系统 对二甲苯涂层系统 完整的真空系统和设备，应用范围广泛 用于确定表面张力的测试油墨 证明等离子体处理成功的等离子体指示器 等离子体发生器